某半导体材料制造技术客户因晶圆刷洗工作发生含氨焦化废水，的水量200吨/天。焦化废一般的水都除氟化物外还带有氟化物和少量天价属，治理 难易大。内地排卸规范符合要求氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废渣基本成分及主要来源 晶圆难以清理废水处理方法（通常特征）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀程序废液：含微量分析铜、镍等巨资属，pH值下跌大 CMP精磨工业废水：含硅粉末及化学需氧量 处里的工艺标准流程 进行"化工沉淀物+膜提取+折点氯化"组合名字工艺设备： 预进行处理 ：加药系统CaCl2除氟，把控pH在7.5-8. 超滤膜操作系统 ：删去0.01μm上粒状物 超滤到精浓 ：将化学需氧量精炼至1000mg/L往上 折点氯化 ：透彻把控好氯污泥脱水量，将氯离子转为为离氮气 阳离子置换 ：确保巨资属达到标准 决定性作用 氧化还原电位维持＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属分量大于论文检测限 水循环率达75% 生活污水产生量少40%